ALD原子层沉积设备  
• 薄膜镀膜技术。
• 精确控制薄膜厚度和结构，直至纳米级。
• 在精细的纳米结构上，薄膜都能具有较高的一致性和保形性。
• 紧密、无针孔、无缺陷薄膜。
• 良好的重复性。
• 工艺温度低，可以沉积在温度敏感的基材。

---

邑文的SINO ALD系列
• 产品工艺应用类型有氧化物、氮化物、金属等。
• 应用于Si基工艺、化合物、MEMS领域、滤波器、显示等领域。
• 可根据用户的产品需求给出对应的产品类型，适合院校、研发线、中试线、大规模产线的不同应用需求。
• 可根据用户应用场景提供不同的工艺需要，定制化工艺方案（如低温工艺，等离子体ALD工艺等）。
• 运营成本低。